Операция выполнена!
Закрыть
Россия и Белоруссия совместно изготовили опытный образец литографической установки для производства микросхем по техпроцессу 130 нм. Об этом заявил первый вице-премьер РФ Денис Мантуров на пленарной сессии форума «Микроэлектроника».
Читайте также
ЛЕНТА

ПИШИТЕ

Техническая поддержка проекта ВсеТут

info@vsetut.pro