Операция выполнена!
Закрыть
Изображение сгенерировано нейросетью Не так давно в России наладили выпуск 350-нм литографов, а теперь отечественные специалисты при поддержке белорусских коллег изготовили опытный образец литографической установки, которая позволяет выпускать полупроводниковую продукцию по технологическим нормам 130 нм. Об этом рассказал первый вице‑премьер РФ Денис Мантуров в ходе проведения форума «Микроэлектроника 2026».
Читайте также
ЛЕНТА

ПИШИТЕ

Техническая поддержка проекта ВсеТут

info@vsetut.pro