Операция выполнена!
Закрыть
Ученые из МФТИ и НИЦ «Курчатовский институт» с коллегами показали, что при воздействии мощного электронного пучка на мишень дополнительным источником динамической нагрузки может стать плазма, образующаяся в вакуумном диоде ускорителя. Это означает, что воздействие на материал может продолжаться и после окончания импульса пучка электронов из-за влияния плазмы на образец. Результаты работы помогут точнее интерпретировать результаты испытании материалов на прочность и радиационную стойкость при мощных импульсных воздействиях.
Читайте также
ЛЕНТА

ПИШИТЕ

Техническая поддержка проекта ВсеТут

info@vsetut.pro