Операция выполнена!
Закрыть

Норвежский стартап Lace Lithography, поддерживаемый Microsoft, как сообщает Reuters, привлёк 40 млн долларов в очередном раунде финансирования. Компания разрабатывает инструмент для изготовления микросхем, который использует пучок атомов гелия вместо света для нанесения рисунка на кремниевые пластины. 

Эта технология, согласно данным самой Lace Lithography, позволяет создавать элементы микросхем в 10 раз меньшего размера, чем существующие системы литографии. Ширина луча составляет всего 0,1 нм, тогда как сканеры EUV компании ASML используют длину волны 13,5 нм.  

Фото Lace Lithography

Разработка пока далека от финальной стадии, но компания говорит, что планирует запустить тестовый образец на пилотном производстве к 2029 году. 

Преимущество такой технологии заключается в том, что атомы не имеют дифракционного предела в отличие от фотонной литография, на которую опирается ASML. Такой подход позволит уменьшить транзисторы и другие элементы на порядок. 

Сама компания называет свои системы BEUV (Beyond-EUV). Она была основана в 2023 году физиком Бодилой Холст.  

Читайте также
ЛЕНТА

ПИШИТЕ

Техническая поддержка проекта ВсеТут

info@vsetut.pro