Операция выполнена!
Закрыть
info@vsetut.pro
Стать автором
Вернуться
Как Soft X-Ray литография может изменить производство микросхем: взгляд на B-EUV
26.09.2025 12:00:07 | Хабр
Хабы: Блог компании МТС, Исследования и прогнозы в IT, Производство и разработка электроники, Процессоры

Полупроводниковая индустрия движется вперед стремительными темпами: чипы становятся все компактнее, производительнее и энергоэффективнее, подпитывая инновации от искусственного интеллекта до автономного транспорта. Но EUV-литография, несмотря на свои достижения, сталкивается с серьезными препятствиями: сложные оптические системы, колоссальные затраты и физические ограничения в разрешении.

И тут на горизонте появляется литография B-EUV (Beyond EUV), основанная на мягком рентгеновском излучении. При длине волны 6,5–6,7 нм она позволяет формировать линии порядка 3–4 нм, что делает ее потенциальной альтернативой Hyper-NA EUV-системам. В первую очередь за счет меньшей числовой апертуры в B-EUV. Соответственно, не требуется много зеркал, да и оптика получается проще и дешевле. Давайте разберем, в чем ее уникальность, какие задачи уже решены и что за барьеры еще предстоит преодолеть.

Читать далее
Подробнее
Читайте также
СТАТЬ АВТОРОМ
НОВОСТИ

ВСЕ НОВОСТИ
ПИШИТЕ

Техническая поддержка проекта ВсеТут

info@vsetut.pro

Copyright © 2025 - vsetut.pro