Операция выполнена!
Закрыть
Ученые Национального исследовательского университета «МЭИ» разработали источник излучения в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне (ЭУФ). Эта технология позволит улучшить процесс литографии микросхем, делая их компактнее и повышая быстродействие.
Читайте также
НОВОСТИ

ПИШИТЕ

Техническая поддержка проекта ВсеТут

info@vsetut.pro