В России разработана первая отечественная установка для получения кристаллов нитрида галлия на 200-миллиметровых кремниевых подложках. Этот важный шаг в области микроэлектроники был достигнут благодаря усилиям специалистов из АО «НИИТМ» (входит в ГК «Элемент»), НТЦ микроэлектроники РАН и ООО «Софт-Импакт».